Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
Издательство: Техносфера, 2010 г.

Настоящая книга является подробным справочным руководством по основным плазмохимическим вакуумным процессам в тонкопленочных технологиях - магнетронному реактивному нанесению тонкой пленки и процессу ионно-плазменного травления. В книге обобщается современное состояние данных процессов. Приводятся подробные описания плазмохимических и напылительных магнетронных установок для травления тонкой пленки. Рассматриваются технологические аспекты их использования.