Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии

Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман

Издательство: Техносфера, 2010 г.

Данная книга - это своеобразный справочник по вакуумным плазмохимическим процессам, которые основаны на тонкопленочной технологии.

В книге содержится огромное количество подробных описаний магнетронных напылительных и плазмохимических установок, предназначенных для травления тонких пленок. Авторами подробно изучены и описаны технологические особенности использования и способы управления этими процессами (реактивное нанесение тонких пленок) при использовании среднечастотных импульсных источников питания. Приведены примеры получения тонких пленок с помощью тройных химических соединений, используя метод реактивного магнетронного сораспыления. Подробно изложена структура пленок и ее зависимость от определенных параметров процесса нанесения.

Подробно изложены принципы конструирования источника, который обладает высокочастотным разрядом высокой плотности используемого для ионного и плазмохимического прецизионного травления пленок и его использования для стимулирования плазмой осаждения тонких пленок.Материалы книги рассчитаны в основном на студентов старших курсов, аспирантов и на специалистов соответствующих специализаций.